plasma cleaner已應用于各種電子元件的制造，可以確信，沒有等離子清洗機及其清洗技術，就沒有今日這么發達的電子、資訊和通訊產業。此外，等離子清洗機及其清洗技術也應用在光學工業、機械與航天工業、高分子工業、污染防治工業和量測工業上，而且是產品提升的關鍵技術，比如說光學元件的鍍膜、延長模具或加工工具壽命的抗磨耗層，復合材料的中間層、織布或隱性鏡片的表面處理、微感測器的制造，超微機械的加工技術、人工關節、骨骼或心臟瓣膜的抗摩耗層等皆需等離子技術的進步，才能開發完成。

等離子清洗機也叫等離子清潔機，或者等離子表面處理儀，是一種全新的高科技技術，利用等離子體來達到常規清洗方法無法達到的效果。等離子體是物質的一種狀態，也叫做物質的第四態，并不屬于常見的固液氣三態。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、原子、活性基團、激發態的核素（亞穩態）、光子等。

CIF等離子清洗機不僅外觀設計美觀、而且內在質量過硬，產品性能穩定可靠，主要核心部件全部采用國際品牌。

CIF推出的新一代等離子清洗機除具備上一代等離子清洗機的特點外，其外觀美學設計，結構緊湊，漂亮大氣；優化的腔體結構，處理樣品量更大，適用范圍更廣；大弧形等離子激發板，等離子激發能力更強；符合人體功能學的60度傾角操作界面，操作更方便。

CIF等離子清洗機不僅外觀設計美觀、而且內在質量過硬，產品性能穩定可靠，主要核心部件全部采用國際品牌。

CIF等離子表面處理儀不僅外觀設計美觀、而且內在質量過硬，產品性能穩定可靠，主要核心部件全部采用。等離子清洗機在材料學，光學，電子學，醫藥學，環境學、生物學等科研領域得了廣泛的應用，主要用于材料表面清洗、活化、沉積、去膠、刻蝕、接枝聚合、疏水、親水、金屬還原、去除有機物、鍍膜前處理、器械消毒等。

CIF推出的CPC系列生產型等離子清洗機是為研發型客戶和工業級客戶而設計的等離子體表面處理設備，配置豐富，且真空腔體里可分層，適合大多數生產場景。適用于等離子清洗，活化以及刻蝕等多種應用，設備可在嚴苛環境下穩定運行，產品穩定，樣品處理重復性一致性好。

CIF推出的CPC系列生產型等離子清洗機是為研發型客戶和工業級客戶而設計的等離子體表面處理設備，配置豐富，且真空腔體里可分層，適合大多數生產場景。適用于等離子清洗，活化以及刻蝕等多種應用，設備可在嚴苛環境下穩定運行，產品穩定，樣品處理重復性一致性好。